Zobrazeno 1 - 5 of 5 pro vyhledávání: '"Wetzel, Robert C."'
1
Akademický článek
Electron-impact ionization cross sections of the SiF3 free radical.
Autor: Hayes, Todd R., Shul, Randy J., Baiocchi, Frank A., Wetzel, Robert C., Freund, Robert S.
Publikováno v: Journal of Chemical Physics; 10/1/1988, Vol. 89 Issue 7, p4035, 7p
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Electron impact ionization cross sections of SiF2.
Autor: Shul, Randy J., Hayes, Todd R., Wetzel, Robert C., Baiocchi, Frank A., Freund, Robert S.
Publikováno v: Journal of Chemical Physics; 10/1/1988, Vol. 89 Issue 7, p4042, 6p
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Absolute cross sections for electron-impact ionization and dissociative ionization of the SiF free radical.
Autor: Hayes, Todd R., Wetzel, Robert C., Baiocchi, Frank A., Freund, Robert S.
Publikováno v: Journal of Chemical Physics; 1/15/1988, Vol. 88 Issue 2, p823, 7p
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Electron cyclotron resonance plasma etching using downstream magnetic confinement.
Autor: Choquette, Kent D., Wetzel, Robert C., Freund, Robert S., Kopf, Rose F.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1992, Vol. 10 Issue 6, p2725-2728, 4p
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Electron cyclotron resonance plasma preparation of GaAs substrates for molecular beam epitaxy.
Autor: Choquette, Kent D., Hong, M., Freund, Robert S., Mannaerts, J. P., Wetzel, Robert C.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1991, Vol. 9 Issue 6, p3502-3505, 4p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje