Zobrazeno 1 - 10 of 40 pro vyhledávání: '"Weisbrod, E."'
1
Akademický článek
Enhancement of MEMS-based Ga2O3 Gas Sensors by Surface Modifications
Autor: Pohle, R., Weisbrod, E., Hedler, H.
Publikováno v: In Procedia Engineering 2016 168:211-215
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
3
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
4
Akademický článek
Extreme ultraviolet mask fabrication with high inspection contrast TaSiNx absorber stack.
Autor: Wasson, J. R., Weisbrod, E. J., Lu, B., Mangat, P. J. S., Dauksher, W. J., Resnick, D. J., Sohn, J., Engelstad, R., Pettibone, D.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 2003, Vol. 21 Issue 6, p3086-3090, 5p
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Prediction of fabrication distortions in step and flash imprint lithography templates.
Autor: Martin, C. J., Engelstad, R. L., Lovell, E. G., Resnick, D. J., Weisbrod, E. J.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 2002, Vol. 20 Issue 6, p2891-2895, 5p
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Proximity and heating effects during electron-beam patterning of ultraviolet lithography masks.
Autor: Lu, B., Wasson, J. R., Weisbrod, E. J., Masnyj, Z., Mangat, P. J. S., Nordquist, K., Resnick, D.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 2002, Vol. 20 Issue 6, p3029-3034, 6p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Thermal modeling of extreme ultraviolet and step and flash imprint lithography substrates during dry etch.
Autor: Weisbrod, E. J., Dauksher, W. J., Zhang, D., Rauf, S., Mangat, P. J. S., Ventzek, P. L. G., Smith, K. H., Clemens, S. B., Martin, C. J., Engelstad, R. L.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 2002, Vol. 20 Issue 6, p3047-3052, 6p
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
Mechanical analysis of the PLASMAX particle removal process for optical and next-generation lithography masks.
Autor: Semke, W. H., Weisbrod, E. J., Engelstad, R. L., Lovell, E. G., Festa, J. J., Bailey, J. B.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 2000, Vol. 18 Issue 6, p3221-3226, 6p
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Inter- and intramembrane resist critical dimension uniformity across a SCALPEL mask.
Autor: Nordquist, K., Ainley, E., Resnick, D. J., Weisbrod, E., Martin, C., Engelstad, R., Masnyj, Z., Mangat, P.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 2000, Vol. 18 Issue 6, p3242-3247, 6p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje