Zobrazeno 1 - 8
of 8
pro vyhledávání: '"Wataru Kanai"'
Publikováno v:
Polymer Engineering and Science. 23:1050-1053
A new negative working photo resist for UV lithography has been produced based on poly(methylisopropenylketone). Its significant characteristic is a minimal swelling upon development, with resulting high resolution capability.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::ce397a0cd229142ed6cf2556a9c87556
https://doi.org/10.1002/pen.760231815
https://doi.org/10.1002/pen.760231815
Publikováno v:
NIPPON KAGAKU KAISHI. :1181-1185
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::51a125af10fd1f19db22bb10f1e45652
https://doi.org/10.1246/nikkashi.1979.1181
https://doi.org/10.1246/nikkashi.1979.1181
Autor:
Setsuko Oikawa, Wataru Kanai, Mitsuo Yabuta, Minoru Tsuda, Ken-ichi Kashiwagi, Isamu Hijikata, Hisashi Nakane, Akira Yokota
Publikováno v:
Polymer Engineering and Science. 23:993-999
A dry developable negative working resist composition comprised of poly(methyl isopropenyl ketone) (PMIPK) and 4-methyl-2,6-di(4′-azido-benzylidene) cyclohexanone-1 was examined. The main photochemical product formed in the resist pattern was found
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::a13aa76001235a812bd78df8eedee7cc
https://doi.org/10.1002/pen.760231804
https://doi.org/10.1002/pen.760231804
Publikováno v:
NIPPON KAGAKU KAISHI. :372-376
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::6d1b078c149ab809c21e886d506dc2eb
https://doi.org/10.1246/nikkashi.1978.372
https://doi.org/10.1246/nikkashi.1978.372
Autor:
Hisashi Nakane, Wataru Kanai, Minoru Tsuda, Ken-ichi Kashiwagi, Setsuko Oikawa, Akira Yokota, Mitsuo Yabuta
Publikováno v:
Japanese Journal of Applied Physics. 22:1215
A dry developable resist composition which gives a steep profile pattern and high-remaining resist thickness (ca. 90%) is described. The composition comprises poly (methyl isopropenyl ketone), PMIPK, and 4,4'-diazidodiphenyl sulfone. The resist patte
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::266b64a165d1e98f5b9479d9f363e9af
https://doi.org/10.1143/jjap.22.1215
https://doi.org/10.1143/jjap.22.1215
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.