Zobrazeno 1 - 10
of 25
pro vyhledávání: '"Wang Liang-Yong"'
Publikováno v:
International Journal of Medical Sciences, Vol 8, Iss 1, Pp 39-47 (2011)
The aim of present study is to study the serum protein fingerprint of patients with colorectal cancer (CRC) and to screen protein molecules that are closely related to colorectal cancer during the onset and progression of the disease with Matrix-assi
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/3c4049734d264de0a077d140189d0d66
Autor:
Feng Gao-Ming, Zhong Min, WU Guangping, Chen Xiao-Gang, Wang Liang-Yong, Yang Zuo-Ya, Chen Bomy, Chen Yifeng, Liu Bo, Xie Zhifeng, Wan Xu-Dong, Song Zhi-Tang, Xu Chen
Publikováno v:
Procedia Engineering. 16:401-406
In order to reduce the RESET current of phase change memory (PCM), which is fabricated using standard 0.13-μm CMOS technology, we have investigated various process factors that might affect the phase transition process, including doping concentratio
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::4690a6ab8b156d63db9e3a809c839d57
https://doi.org/10.1016/j.proeng.2011.08.1102
https://doi.org/10.1016/j.proeng.2011.08.1102
Publikováno v:
Chinese Physics Letters. 24:259-261
We investigate the effect of chemicals on chemical mechanical polishing (CMP) of glass substrates. Ceria slurry in an ultra-low concentration of 0.25 wt.% is used and characterized by scanning electron microscopy. Three typical molecules, i.e. acetic
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::20a7663b0db262fd7f965567200c2994
https://doi.org/10.1088/0256-307x/24/1/070
https://doi.org/10.1088/0256-307x/24/1/070
Publikováno v:
Chinese Physics Letters. 23:2296-2298
A damascene structure of phase change memory (PCM) is fabricated successfully with the chemical mechanical polishing (CMP) method, and the CMP of Ge2Sb2Te5 (GST) and Ti films is investigated. The polished surface of wafer is analysed by scanning elec
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::1eb9b70fcc8f525203e303fe683cd961
https://doi.org/10.1088/0256-307x/23/8/091
https://doi.org/10.1088/0256-307x/23/8/091
Publikováno v:
Chinese Physics B. 23:048301
The effect of iron trichloride (FeCl3) on chemical mechanical polishing (CMP) of Ge2Sb2Te5 (GST) film is investigated in this paper. The polishing rate of GST increases from 38 nm/min to 144 nm/min when the FeCl3 concentration changes from 0.01 wt% t
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::3a2d2968276a0872ebb0b795e633f000
https://doi.org/10.1088/1674-1056/23/4/048301
https://doi.org/10.1088/1674-1056/23/4/048301
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.