Zobrazeno 1 - 10
of 179
pro vyhledávání: '"Walde, S."'
Autor:
Walde, S., Hagedorn, S., Coulon, P.-M., Mogilatenko, A., Netzel, C., Weinrich, J., Susilo, N., Ziffer, E., Matiwe, L., Hartmann, C., Kusch, G., Alasmari, A., Naresh-Kumar, G., Trager-Cowan, C., Wernicke, T., Straubinger, T., Bickermann, M., Martin, R.W., Shields, P.A., Kneissl, M., Weyers, M.
Publikováno v:
In Journal of Crystal Growth 1 February 2020 531
Autor:
Hagedorn, S., Walde, S., Mogilatenko, A., Weyers, M., Cancellara, L., Albrecht, M., Jaeger, D.
Publikováno v:
In Journal of Crystal Growth 15 April 2019 512:142-146
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; 6/7/2022, Vol. 131 Issue 21, p1-11, 11p
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; 1/28/2022, Vol. 131 Issue 4, p1-7, 7p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Journal of Food Science & Technology; Feb2023, Vol. 60 Issue 2, p528-537, 10p
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; 2018, Vol. 123 Issue 16, pN.PAG-N.PAG, 4p, 2 Diagrams, 3 Graphs
Publikováno v:
Ecography, 1992 Oct 01. 15(4), 393-400.
Externí odkaz:
https://www.jstor.org/stable/3682992
Autor:
Hagedorn, S., Walde, S., Susilo, N., Netzel, C., Tillner, N., Unger, R. S., Manley, P., Ziffer, E., Wernicke, T., Becker, C., Lugauer, H. J., Kneissel, M., Weyers, M.
In this study, AlN growth by metalorganic vapor phase epitaxy on hole type nano patterned sapphire substrates is investigated. Cracking occurs for an unexpectedly thin layer thickness which is associated to altered nucleation conditions caused by the
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______3680::7f6dd6e56d603078e6a8daeb579aed6e
http://www.helmholtz-berlin.de/pubbin/oai_publication?VT=1&ID=100653
http://www.helmholtz-berlin.de/pubbin/oai_publication?VT=1&ID=100653
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.