Zobrazeno 1 - 10
of 21
pro vyhledávání: '"W.B. Penzes"'
Autor:
William F. Guthrie, R.A. Allen, A.W. Gurnell, W.B. Penzes, Michael W. Cresswell, Loren W. Linholm
Publikováno v:
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing. 10:250-255
This paper describes the exploratory use of electrical test structures to enable the calibration of optical overlay instruments of the type used to monitor semiconductor-device fabrication processes. Such optical instruments are known to be vulnerabl
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::f389c62b3cc7f066b2d31b3b2b2f5a08
https://doi.org/10.1109/66.572077
https://doi.org/10.1109/66.572077
Publikováno v:
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing. 7:266-271
A new electrical test structure for overlay measurement has been evaluated by replicating arrays of its complementary components from two different photomasks into a conducting film on a quartz substrate. The features resulting from images projected
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e66b62652dc87fbbd9e27fc8c4008007
https://doi.org/10.1109/66.311328
https://doi.org/10.1109/66.311328
Publikováno v:
ICMTS 93 Proceedings of the 1993 International Conference on Microelectronic Test Structures.
A new test structure is reported. It is designed to measure the positions of the images of an array of features projected from a mask into a resist film on substrate with accuracy better than 10 nm. The resist film on the substrate covers a nominally
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::41dc7ea3f9990ef34a849604abf0e73e
https://doi.org/10.1109/icmts.1993.292910
https://doi.org/10.1109/icmts.1993.292910
Autor:
E.C. Teague, J.S. Jun, Loren W. Linholm, Michael W. Cresswell, J.A. Kramar, J.S. Villarrubia, F.E. Scire, W.B. Penzes
It is shown how the needs for calibrating the positional accuracy of features of an X-ray mask membrane or an optical reticle can be addressed by application of a high-accuracy coordinate metrology system known as the Molecular Measuring Machine (M-C
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::bba9271bd7df9536011b8eef891f5e0b
https://zenodo.org/record/1271119
https://zenodo.org/record/1271119
Line scales are used throughout industry for a variety of applications. The most common is the stage micrometer, a small, graduated glass scale for the calibration of optical instruments such as microscopes. However, stage micrometers are generally n
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::90af8cb469e5d4b5b11302e787ff76b7
https://zenodo.org/record/1260797
https://zenodo.org/record/1260797
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.