Zobrazeno 1 - 8
of 8
pro vyhledávání: '"W. v. Muench"'
Autor:
W. v. Muench, H. Statz
Publikováno v:
Solid-State Electronics. 9:939-942
The technique of tin and zinc diffusion from doped pyrolytic SiO2-layers has been used to form the base regions of planar npn- and pnp-GaAs-transistors. By a suitable sequence of deposition and photoresist processes it is possible to obtain a pattern
Autor:
W. v. Muench, I. Pfaffeneder
Publikováno v:
Journal of Applied Physics. 48:4831-4833
The electrical breakdown of one‐sided abrupt p‐n junctions in 6H silicon carbide has been investigated. The diodes are produced by vapor growth and mesa etching. Breakdown fields in the range (2–3.7) ×106 V/cm have been observed for p layers w
Autor:
W. v. Muench, E. Pettenpaul
Publikováno v:
Journal of Applied Physics. 48:4823-4825
The saturated electron drift velocity has been measured in epitaxial 6H silicon carbide layers. The saturation occurs at an electric field of approximately 2×105 V/cm. The saturated drift velocity is 2×107 cm/s at room temperature, i.e., a factor o
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.