Zobrazeno 1 - 5
of 5
pro vyhledávání: '"W. Wiebauer"'
Autor:
J. Kaspar, G. Wald, K. Weber, K. Wiesinger, W. Rogge, A. Komposch, M. Leicht, J. Riss, B. Danzfuss, K.H. Muehlbacher, H. Geiger, T. Neidhart, B. Simmnacher, A. Stefaner, H. Pairitsch, G. Schagerl, T. Gross, H. Gruber, H. Peri, N. Dyroff, K. Sorschag, T. Gaertner, B. Mayer, H. Domes, T. Rupp, W. Wiebauer, J. Gatterbauer, S. Steinacher, A. Henoeckl, E. Trieblnig
Publikováno v:
2004 IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop (IEEE Cat. No.04CH37530).
Power processes are a challenge for 8-inch production especially in thermal processing. The temperatures exceed those used in DRAM and LOGIC by far and make a detailed knowledge of the critical process limits and maximum temperatures mandatory. We de
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::2553d86f5884ed0008c85f4b743094af
https://doi.org/10.1109/asmc.2004.1309529
https://doi.org/10.1109/asmc.2004.1309529
Autor:
G. Wedler, W. Wiebauer
Publikováno v:
Thin Solid Films. 28:65-81
The dependence of the resistivity and the Hall effect of copper films on the method of film preparation and the film thickness has been studied before and after adsorption of carbon monoxide. It is shown that the Fuchs-Sondheimer theory does not adeq
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::3eb1099b6dd113b68423009cef14b143
https://doi.org/10.1016/0040-6090(75)90276-x
https://doi.org/10.1016/0040-6090(75)90276-x
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.