Zobrazeno 1 - 10
of 10
pro vyhledávání: '"W. Walrave"'
Publikováno v:
Journal of Applied Physics. 80:3734-3738
The effect of oxygen ion implantation on the electrical and optical properties of Sn‐doped In2O3 (ITO) thin films, sputter deposited from a planar magnetron source on glass substrates, is described. The films were characterized as a function of the
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::82d4c13fc3b52169bd983c34290cc8a4
https://doi.org/10.1063/1.363324
https://doi.org/10.1063/1.363324
Publikováno v:
Thin Solid Films. 266:152-156
The etching behaviour of sputter-deposited tin-doped indium oxide (ITO) films in 8 M HCl solutions was investigated. The etch rate was mainly dependent on the microcrystallinity of the films. Amorphous ITO dissolved with an extremely high rate, while
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::09c54350bb0ae6b9e2e30df4d9fe95af
https://doi.org/10.1016/0040-6090(95)06742-6
https://doi.org/10.1016/0040-6090(95)06742-6
Publikováno v:
Thin Solid Films. 266:145-151
Tin-doped indium oxide films deposited by d.c. magnetron sputtering were characterized by electrical resistivity, optical transmission, X-ray diffraction (XRD), transmission electron microscopy and stress measurements. Deposition was performed at low
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::a211011fb14d0153e6bcb0ef23644b4b
https://doi.org/10.1016/0040-6090(95)06818-x
https://doi.org/10.1016/0040-6090(95)06818-x
Autor:
Teunis J. Vink, Marcel A. J. Somers, J.L.C. Daams, K. J. A. van den Aker, A. G. Dirks, W. Walrave
Publikováno v:
Journal of Applied Physics. 74:988-995
Tungsten thin films were deposited on glass substrates by direct‐current planar magnetron sputtering. The induced thickness‐averaged film stress within the plane of the film was determined with the bending‐beam technique and changed from compre
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::d4832c0d252649a3ef3e576a108deea1
https://doi.org/10.1063/1.354842
https://doi.org/10.1063/1.354842
Publikováno v:
MRS Proceedings. 343
In magnetron sputter deposition the intrinsic stress in refractory-metal films changes from compressive to tensile on increasing the working-gas pressure. This pressure dependence is linked to the particle transport process from target to substrate d
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::f1280d0b2142cc23f3f4b4dd33a2651b
https://doi.org/10.1557/proc-343-591
https://doi.org/10.1557/proc-343-591
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.