Zobrazeno 1 - 6
of 6
pro vyhledávání: '"W. Uesato"'
Publikováno v:
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing. 6:22-27
Two contact engineering methods developed for submicron contact openings are described. The two methods, SCOPE (simultaneous contact and planarization etch) and PACE (planarization after contact etch), interchange the process sequences of dielectric
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::7e97554632d3516e7b3a423c239ba2bb
https://doi.org/10.1109/66.210655
https://doi.org/10.1109/66.210655
Publikováno v:
1991 International Symposium on VLSI Technology, Systems, and Applications - Proceedings of Technical Papers.
As CMOS device geometries shrink to below half micron sizes, contact and metal design rules have become the limiting factors for increasing circuit packing density. In order to reduce the contact and metal features accordingly, the process integratio
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b618f8659b1176d8a61167bed66d808f
https://doi.org/10.1109/vtsa.1991.246726
https://doi.org/10.1109/vtsa.1991.246726
Publikováno v:
International Technical Digest on Electron Devices.
Summary form only given. A novel approach is used to form a selective CVD (chemical-vapor-deposited) W plug on a Ti silicide surface by adding a nucleation layer in the contact hole. The technique is called SANIC (self-aligned nucleation layer format
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::92f788070e9dfd90d05fb9cca0c019d9
https://doi.org/10.1109/iedm.1990.237011
https://doi.org/10.1109/iedm.1990.237011
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.