Zobrazeno 1 - 10
of 49
pro vyhledávání: '"W. Häßler‐Grohne"'
Publikováno v:
Tagungsband.
Highly accurate dimensional metrology of nano structures are increasingly demanded for quality assurance in various nanomanufacturing industries. This paper presents some recent progresses on the developments of reference nanometrology at PTB based o
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e2b1d8e7acfbf05159640cebfa8abe1e
https://doi.org/10.5162/sensoren2016/3.1.1
https://doi.org/10.5162/sensoren2016/3.1.1
Publikováno v:
Wear. 257:1241-1245
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b4d363b964a6fc17fac8eba72bdf749e
https://doi.org/10.1016/j.wear.2004.03.047
https://doi.org/10.1016/j.wear.2004.03.047
Autor:
W Häßler-Grohne, H Bosse
Publikováno v:
Measurement Science and Technology. 9:1120-1128
The demands on the uncertainties of pattern placement and overlay measurements in lithography are constantly growing due to the continuing reduction of feature size which allows higher density integration. Although nowadays optical projection lithogr
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::bf06ec10c614185dbb85894d11e8bbc2
https://doi.org/10.1088/0957-0233/9/7/020
https://doi.org/10.1088/0957-0233/9/7/020
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
A new 3D-AFM for true 3D measurements of nano structures has been developed at Physikalisch Technische-Bundesanstalt, the national metrology institute of Germany. In its configuration, two piezo actuators are applied to drive the AFM cantilever near
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b4d93e547583780608863f43ba534842
https://doi.org/10.1117/12.884657
https://doi.org/10.1117/12.884657
Autor:
H. Bosse, W. Häßler-Grohne
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. :603-605
For pattern placement metrology aimed at the smallest possible uncertainty, extreme care has to be taken to ensure suitable stability of all components of the used measuring instrument due to the large number of edge positions to be measured repeated
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::f040e7f5945b40392d280f1a3868fabe
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(98)00141-5
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(98)00141-5
Publikováno v:
Nanoscale Calibration Standards and Methods: Dimensional and Related Measurements in the Micro-and Nanometer Range
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::f0152a3e9b7bea7c2118b901c3960fac
https://doi.org/10.1002/3527606661.ch29
https://doi.org/10.1002/3527606661.ch29
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures. 15:2181
Contamination of structures to be analyzed in an electron microscope is a severe problem for dimensional metrology applications, especially for low voltage electron microscopy. Two methods for contamination reduction which do not use a temperature va
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::80658d591fc79e1ab7b7b085b6c0790f
https://doi.org/10.1116/1.589349
https://doi.org/10.1116/1.589349
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.