Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"W. Catsburg"'
Autor:
S. van den Boogaart, J. Maessen, F.C.M.J.M. van Delft, J. G. Kloosterboer, W. Catsburg, F. H. P. M. Habraken, E. J. K. Verstegen
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. :540-545
Copolymers of methylmethacrylate (MMA) and trimethylsilyl-methylmethacrylate (SiMMA) in various molar ratios have been synthesised and characterised for use as a resist in electron beam lithography. The development procedure has been optimised in ter
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e6e12c1a30fece7d55cc40ede22223f6
https://doi.org/10.1016/j.mee.2004.12.068
https://doi.org/10.1016/j.mee.2004.12.068
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.