Zobrazeno 1 - 10
of 169
pro vyhledávání: '"Von Keudell, Achim"'
Physical vapor deposition (PVD) refers to the removal of atoms from a solid or a liquid by physical means, followed by deposition of those atoms on a nearby surface to form a thin film or coating. Various approaches and techniques are applied to rele
Externí odkaz:
https://ul.qucosa.de/id/qucosa%3A88398
https://ul.qucosa.de/api/qucosa%3A88398/attachment/ATT-0/
https://ul.qucosa.de/api/qucosa%3A88398/attachment/ATT-0/
Autor:
Arcos, Teresa de los, Awakowicz, Peter, Benedikt, Jan, Biskup, Beatrix, Böke, Marc, Boysen, Nils, Buschhaus, Rahel, Dahlmann, Rainer, Devi, Anjana, Gergs, Tobias, Jenderny, Jonathan, von Keudell, Achim, Kühne, Thomas D., Kusmierz, Simon, Müller, Hendrik, Mussenbrock, Thomas, Trieschmann, Jan, Zanders, David, Zysk, Frederik, Grundmeier, Guido
This feature article considers the analysis of the initial states of film growth on polymer substrates. The assembled results are based on the cooperation between research groups in the field of plasma physics, chemistry, electric as well as mechanic
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2307.00011
The transport of sputtered species from the target of a magnetron plasma to a collecting surface at the circumference of the plasma is analyzed using a particle tracer technique. A small chromium insert at the racetrack position inside a titanium tar
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2306.03811
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Scaling or smiliarity laws of plasmas are of interest if lab size plasma sources are to be scaled for industrial processes. Ideally, the discharge parameters of the scaled plasmas are predictable and the fundamental physical processes are unaltered.
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1508.06739
High power pulsed magnetron sputtering (HPPMS) plasmas are pulsed discharges where the plasma composition as well as the fluxes and energies of ions are changing during the pulse. The time resolved energy distribution for Ar$^{1+}$ ions was measured
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1405.5123
HiPIMS plasmas generate energetic metal ions at the substrate as a major difference to conventional direct current magnetron sputtering. The origin of these ions is still an open issue, which is unraveled by using two fast diagnostics: time resolved
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1311.7545
Autor:
Corbella, Carles, Grosse-Kreul, Simon, Kreiter, Oliver, Arcos, Teresa de los, Benedikt, Jan, von Keudell, Achim
A beam experiment is presented to study heterogeneous reactions relevant to plasma-surface interactions. Atom and ion beams are focused onto the sample to expose it to quantified beams of oxygen, nitrogen, hydrogen, noble gas ions and metal vapor. Th
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1306.1431