Zobrazeno 1 - 10
of 44
pro vyhledávání: '"Volkmann, U. G."'
Autor:
Bai, M., Knorr, K., Simpson, M. J., Trogisch, S., Taub, H., Ehrlich, S. N., Mo, H., Volkmann, U. G., Hansen, F. Y.
Noncontact Atomic Force Microscopy and synchrotron x-ray scattering measurements on dotriacontane (n-C32H66 or C32) films adsorbed on SiO2-coated Si(100) wafers reveal a narrow temperature range near the bulk C32 melting point Tb in which a monolayer
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/cond-mat/0611497
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Avila, J. I., Matelon, R. J., Trabol, R., Favre, M., Lederman, D., Volkmann, U. G., Cabrera, A. L.
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; Jan2010, Vol. 107 Issue 2, p023504-023509, 5p, 1 Diagram, 6 Graphs
Publikováno v:
Journal of Chemical Physics; 10/15/2005, Vol. 123 Issue 15, p154703, 8p, 4 Diagrams, 2 Graphs
Publikováno v:
Journal of Chemical Physics; 2/1/2002, Vol. 116 Issue 5, p2107, 9p, 1 Black and White Photograph, 4 Graphs
Autor:
Mengotti, E., Heyderman, L. J., Nolting, F., Craig, B. R., Chapman, J. N., Lopez-Diaz, L., Matelon, R. J., Volkmann, U. G., Kläui, M., Rüdiger, U., Vaz, C. A. F., Bland, J. A. C.
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; Apr2008, Vol. 103 Issue 7, p07D509, 3p