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pro vyhledávání: '"Vitaly Lissotschenko"'
Autor:
Maxim V. Bolshakov, Waleri Imgrunt, Lutz Aschke, Victor A. Soifer, Vladimir S. Pavelyev, Yuri V. Miklyaev, Denis G. Kachalov, Vitaly Lissotschenko
Optical lithography with its 193nm technology is pushed to reach and shift its limits even further. There is strong demand on innovations in illumination part of exposure tools. Current illumination systems consisting of diffractive and refractive op
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::f838611a82873ec36044bd5dea6b2808
http://dspace.susu.ru/handle/0001.74/20499
http://dspace.susu.ru/handle/0001.74/20499
Publikováno v:
Laser Focus World. Dec95 Buyers Guide '96, Vol. 31 Issue 12, p682. 159p.
Autor:
Incardona, Rossella1 rossellaincardona@gmail.com, Poncibò, Cristina2 cristinaponcibo@tin.it
Publikováno v:
Journal of Consumer Policy. Mar2007, Vol. 30 Issue 1, p21-38. 18p.
Autor:
Ricolfi, Marco
Questo lavoro è stato iniziato nell'aprile del 2006 e concluso nel 2015. Esso è aggiornato fino al dicembre del 2014. Distribuito in libreria in formato tradizionale, è anche rilasciato con licenza Creative Commons BY -NC; ad esso si puಠaccede