Výsledky vyhledávání - "Viswanathan, C.R"

Knihovna AV ČR, v. v. i.

Odhlásit
Přihlášení
Jazyk
- English
- Čeština
Instituce

Pokročilé vyhledávání

Zahrnout EIZ

Zachovat současné nastavení filtrů

EXPAND:"fulltext"

Domovská stránka
Vyhledávání: "Viswanathan, C.R"
Navrhnout nákup titulu

Zobrazeno 1 - 10 of 209 pro vyhledávání: '"Viswanathan, C.R"'

Řazení

Vybrat vše | Vybrané výsledky:

Vybrat výsledek číslo 1 1

Akademický článek

Plasma-induced damage

Autor: Viswanathan, C.R.

Publikováno v: In Microelectronic Engineering 1999 49(1):65-81

Zobrazit plný text záznamu

Vybrat výsledek číslo 2 2

Akademický článek

A direct charge pumping technique for spatial profiling of hot-carrier induced interface and oxide traps in MOSFETs

Autor: Mahapatra, S ^*, Parikh, C.D, Vasi, J, Ramgopal Rao, V, Viswanathan, C.R

Publikováno v: In Solid State Electronics 1999 43(5):915-922

Zobrazit plný text záznamu

Vybrat výsledek číslo 3 3

Conference

Flicker noise measurements in enhancement mode and depletion mode n-MOS transistors.

Autor: Chang, J., Viswanathan, C.R., Anagnostopoulos, C.

Publikováno v: International Symposium on VLSI Technology, Systems & Applications; 1989, p217-221, 5p

Zobrazit plný text záznamu

Vybrat výsledek číslo 4 4

Conference

Low-temperature characterization of CMOS devices.

Autor: Viswanathan, C.R.

Publikováno v: International Symposium on VLSI Technology, Systems & Applications; 1989, p207-212, 6p

Zobrazit plný text záznamu

Vybrat výsledek číslo 5 5

Conference

Localized charge injection through the gate oxide over gate-drain overlap region: mechanism, device dependence, and application for device diagnostics.

Autor: Brozek, T., Sridharan, A., Werking, J., Chan, Y.D., Viswanathan, C.R.

Publikováno v: International Electron Devices Meeting Technical Digest; 1996, p869-872, 4p

Zobrazit plný text záznamu

Vybrat výsledek číslo 6 6

Conference

An improved 1/f noise model of an MOS transistor.

Autor: Backensto, W.V., Viswanathan, C.R.

Publikováno v: 1975 International Electron Devices Meeting; 1975, p469-473, 5p

Zobrazit plný text záznamu

Vybrat výsledek číslo 7 7

Conference

Depletion region formation at low temperatures.

Autor: Viswanathan, C.R., Divakaruni, R., Prabhakar, V.

Publikováno v: 1991 International Symposium on VLSI Technology, Systems & Applications - Proceedings of Technical Papers; 1991, p274-277, 4p

Zobrazit plný text záznamu

Vybrat výsledek číslo 8 8

Conference

LDD charge pumping-direct measurement of interface states in the overlap region.

Autor: Prabhakar, V., Brozek, T., Chan, Y.D., Viswanathan, C.R.

Publikováno v: Proceedings of International Electron Devices Meeting; 1995, p45-48, 4p

Zobrazit plný text záznamu

Vybrat výsledek číslo 9 9

Conference

Role of temperature in process-induced charging damage in sub-micron CMOS transistors.

Autor: Brozek, T., Chan, Y.D., Viswanathan, C.R.

Publikováno v: Proceedings of International Electron Devices Meeting; 1995, p311-314, 4p

Zobrazit plný text záznamu

Vybrat výsledek číslo 10 10

Conference

Measurement of interface states in the LDD region of a MOS transistor using a modified charge pumping technique.

Autor: Prabhakar, V., Broiek, T., Chan, Y.D., Viswanathan, C.R.

Publikováno v: Proceedings of International Conference on Microelectronic Test Structures; 1996, p87-90, 4p

Zobrazit plný text záznamu

Vybrat vše | Vybrané výsledky:

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
Další »
[21]

Vyhledávací nástroje:

RSS
Poslat e-mailem

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání

Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR

Zdroje

Pouze tištěné dokumenty

Zahrnout EIZ

129 Akademické články
78 Konferenční materiály
4 Časopisy
3 Recenze
2 Trade Publications
1 Knihy

3 thin films
3 transistors
2 layer structure (solids)
2 secondary ion mass spectrometry
1 charge injection
1 charge pumping
1 damage
1 fowler-nordheim injection
1 gallium compounds
1 gidl
1 low temperature
1 mos transistor
1 mosfets
1 nitrogen compounds
1 noise measurement
1 oxidation
1 oxide
1 poly-si
1 reduction
1 reliability
1 rie
1 silicon oxidation
1 sputter etching
1 threshold voltage
1 traps

78 ieee
9 ieee computer society
7 elsevier ltd
7 publ by ieee
6 elsevier b.v.
4 american institute of physics inc.
4 institution of engineering & technology
3 american institute of physics
3 institute of electrical and electronics engineers inc.
3 taylor & francis ltd
2 elsevier
2 materials research society
1 asee
1 elsevier inc.
1 elsevier science ltd
1 elsevier science publishers b.v.
1 japan soc of applied physics
1 minerals, metals & materials soc (tms)
1 pergamon press
1 publ by business cent for acad soc japan
1 spie

29 ieee transactions on electron devices
15 ieee electron device letters
13 applied physics letters
11 microelectronic engineering
9 european solid-state device research conference
5 solid state electronics
4 electronics letters
4 ieee international conference on microelectronic test structures
4 international journal of electronics
4 international symposium on plasma process-induced damage, p2id, proceedings
4 proceedings of the ieee
3 2nd international symposium on plasma process-induced damage
3 iee proceedings i: solid state and electron devices
3 japanese journal of applied physics
3 journal of applied physics
3 solid-state electronics
3 the journal of chemical physics
2 1990 ieee sos/soi technology conference proceedings
2 1990 ieee sos/soi technology conference, proceedings
2 1991 ieee international soi conference proceedings
2 electronics letters (institution of engineering & technology)
2 iee proceedings: part i: solid-state & electron devices
2 ieee transactions on microwave theory and techniques
2 ieee transactions on nuclear science
2 international symposium on vlsi technology, systems & applications
2 international symposium on vlsi technology, systems, and applications, proceedings
2 journal of crystal growth
2 journal of the acm (jacm)
2 journal of vacuum science and technology b: microelectronics and nanometer structures
2 materials research society symposium - proceedings
2 microelectronics reliability
2 physical review b
2 proceedings of 1st international symposium on plasma process-induced damage
2 proceedings of international electron devices meeting
2 proceedings of the workshop on low temperature semiconductor electronics
2 solid state technology
2 technical digest - international electron devices meeting
2 thin solid films
1 1975 international electron devices meeting
1 1976 international electron devices meeting
1 1978 international electron devices meeting
1 1979 international electron devices meeting
1 1987 international electron devices meeting
1 1991 international symposium on vlsi technology, systems & applications - proceedings of technical papers
1 1995 international symposium on vlsi technology, systems & applications proceedings of technical papers
1 1997 ieee international conference on microelectronic test structures proceedings
1 1998 3rd international symposium on plasma process-induced damage (cat no98ex100)
1 27th european solid-state device research conference
1 28th european solid-state device research conference
1 the physics of sio2 and its interfaces

123 Scopus®
68 Complementary Index
11 ScienceDirect
4 Supplemental Index
2 Academic Search Ultimate
1 Business Source Ultimate

Od:

do:

Možnosti vyhledávání

Tematická mapa
Historie vyhledávání
Pokročilé vyhledávání

Objevte více

Abecední procházení

Hledáte pomoc?

Tipy pro vyhledávání

načítá se......