Zobrazeno 1 - 10
of 235
pro vyhledávání: '"Vella, Joseph"'
Anisotropic etching is a widely used process in semiconductor manufacturing, in particular for micro- and nano-scale texturing of silicon surfaces for black silicon production. The typical process of plasma-assisted etching uses energetic ions to rem
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2305.09037
Autor:
Janasik, Patryk, Motyka, Radosław, Chulkin, Pavel, Czichy, Malgorzata, Janasik, Dawid, Vella, Joseph, Tollemache, Cherie, Travas-Sejdic, Jadranka, Lapkowski, Mieczyslaw
Publikováno v:
In Electrochimica Acta 20 May 2024 487
Autor:
Liu, Lingdai, Swift, Simon, Taylor, John, Nutsford, Ashley N., Tollemache, Cherie, Lu, Ziqi, Yadav, Pooja, Zujovic, Zoran, Ross, Jacqueline, Vella, Joseph, Chen, Shurui, Perera, Janesha, Li, Dan, Kilmartin, Paul A.
Publikováno v:
In Chemical Engineering Journal 1 February 2024 481
Autor:
Vella, Joseph B.
Publikováno v:
In Facial Plastic Surgery Clinics of North America February 2024 32(1):95-103
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Ting, Matthew S., Vella, Joseph, Raos, Brad J., Narasimhan, Badri Narayanan, Svirskis, Darren, Travas-Sejdic, Jadranka, Malmström, Jenny
Publikováno v:
In Biomaterials Advances March 2022 134