Comparisons of the Structure of Stoichiometric CH~4-N~2O-Ar and CH~4-O~2-Ar Flames by Molecular Beam Sampling and Mass-Spectrometric Analysis, by J. Vandooren, M. C. Branch, and P. J. Van Tiggelen: Reply

Autor: Vandooren, J., Branch, M. C., Tiggelen, P. J. Van

Publikováno v: Combustion and Flame; 1995, Vol. 101 Issue: 1 p195-195, 1p

Coupling effect between the front and back interfaces in thin SOI MOSFETs

Autor: Ohata S. Cristoloveanu A. Vandooren M. Cassé F. Daugé, A.

Publikováno v: Microelectronic Engineering
Microelectronic Engineering, Elsevier, 2005, 80, pp.245-248
14th Biennial Conf. on Insulating Films On Semiconductors
14th Biennial Conf. on Insulating Films On Semiconductors, 2005, XX, pp.XX

International audience

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::009972bed6645dcde8d2534d145a1b2e
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00146218

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Numerical Study of Laminar Flame Propagation in CH4–N2O–N2 at Moderate Pressures and Temperatures.

Autor: Giurcan, V.¹ (AUTHOR), Mitu, M.¹ (AUTHOR) maria_mitu@icf.ro, Movileanu, C.¹ (AUTHOR), Razus, D.¹ (AUTHOR), Oancea, D.² (AUTHOR)

Publikováno v: Combustion, Explosion, & Shock Waves. Feb2022, Vol. 58 Issue 1, p22-33. 12p.