Zobrazeno 1 - 10
of 24
pro vyhledávání: '"V. Korobotchko"'
Autor:
R. de Bruijn, Jürgen Dr. Kleinschmidt, Uwe Stamm, K. Gabel, D. Bolshukhin, Jens Ringling, Guido Schriever, Chinh Duc Prof. Tran, Björn Mader, S. Gotze, A. Keller, Guido Hergenhan, Jesko Dr. Brudermann, V. Korobotchko, A. Geier, C. Ziener, I. Ahmad
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
In the paper we report about the progress made at XTREME technologies in the development of EUV sources based on gas discharge produced plasma (GDPP) technologies as well as the integration of collector optics. Optics from different suppliers were in
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::7662785b065c89b0f7d50f384bf4e6ee
https://doi.org/10.1117/12.599560
https://doi.org/10.1117/12.599560
Autor:
I. Ahmad, R. de Bruijn, Jens Ringling, K. Gabel, T. D. Chin, Björn Mader, Jürgen Dr. Kleinschmidt, Guido Schriever, V. Korobotchko, D. Bolshukhin, S. Gotze, T. Brauner, A. Keller, Uwe Stamm, Jesko Dr. Brudermann, C. Ziener, A. Geier, Guido Hergenhan
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
In the paper we report about the progress made at XTREME technologies in the development of EUV sources based on gas discharge produced plasma (GDPP) technologies and laser produced plasma (LPP) technologies. First prototype xenon GDPP sources of the
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::9658561778eb09171fbd6328430d00a2
https://doi.org/10.1117/12.599544
https://doi.org/10.1117/12.599544
Autor:
D. Klopfel, Uwe Stamm, P. Kohler, S. Gotze, Guido Schriever, J. Ringling, Kai Dr. Gäbel, V. Korobotchko, F. Flohrer, Jürgen Dr. Kleinschmidt, I. Ahmad
Publikováno v:
Summaries of Papers Presented at the Lasers and Electro-Optics. CLEO '02. Technical Diges.
Summary form only given. Extending deep ultraviolet micro-lithography into the extreme ultraviolet (EUV) using wavelengths around 13.5 nm is the most promising approach to meet the demands of semiconductor chip manufacturing from the year 2007 on and
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::60fdbb722f13d74146a17438a472308a
https://doi.org/10.1109/cleo.2002.1034176
https://doi.org/10.1109/cleo.2002.1034176
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; 9/14/2019, Vol. 126 Issue 10, pN.PAG-N.PAG, 6p, 6 Graphs
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.