Zobrazeno 1 - 10 of 262 pro vyhledávání: '"Völkel, R."'
1
Akademický článek
Functional epoxy polymer for direct nano-imprinting of micro-optical elements
Autor: Fader, R., Landwehr, J., Rumler, M., Rommel, M., Bauer, A.J., Frey, L., Völkel, R., Brehm, M., Kraft, A.
Publikováno v: In Microelectronic Engineering October 2013 110:90-93
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Computational algorithms for optimizing mask layouts in proximity printing
Autor: Motzek, K., Vogler, U., Hennemeyer, M., Hornung, M., Voelkel, R., Erdmann, A., Meliorisz, B.
Publikováno v: In Microelectronic Engineering August 2011 88(8):2066-2069
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Contact and proximity lithography using 193 nm Excimer laser in Mask Aligner
Autor: Partel, S., Zoppel, S., Hudek, P., Bich, A., Vogler, U., Hornung, M., Voelkel, R.
Publikováno v: In Microelectronic Engineering 2010 87(5):936-939
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Full wafer microlens replication by UV imprint lithography
Autor: Schmitt, H., Rommel, M., Bauer, A.J., Frey, L., Bich, A., Eisner, M., Voelkel, R., Hornung, M.
Publikováno v: In Microelectronic Engineering 2010 87(5):1074-1076
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Miniaturized imaging systems
Autor: Völkel, R. ∗, Eisner, M., Weible, K.J.
Publikováno v: In Microelectronic Engineering 2003 67:461-472
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Thermal oxidation of the methylene diphenylene unit in MDI-TPU
Autor: Servay, T. *, Voelkel, R., Schmiedberger, H., Lehmann, S.
Publikováno v: In Polymer June 2000 41(14):5247-5256
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
NMR microscopy of polyurethane foams
Autor: Szayna, M, Voelkel, R *
Publikováno v: In Solid State Nuclear Magnetic Resonance 1999 15(2):99-102
Zobrazit plný text záznamu
9
Modellierung und Simulation bei Mask Aligner Lithographie (Source-Mask Optimization)
Autor: Vogler, U., Bramati, A., Völkel, R., Hornung, M., Zoberbier, R., Motzek, M., Erdmann, A., Stürzebecher, L., Zeitner, U.
MO Exposure Optics, einen neue Beleuchtungsoptik für Mask Aligner, ermöglicht es ein nahezu beliebiges Winkelspektrum des Beleuchtungslichtes (Customized Illumination) zu erzeugen und damit die Auflösung der Lithographie gezielt zu verbessern. Ein
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______610::c80ae764d0750d1a5e704d730a4a9d52
https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/227688
Zobrazit plný text záznamu
10
Advanced mask aligner lithography: Fabrication of periodic patterns using pinhole array mask and Talbot effect
Autor: Stürzebecher, L., Harzendorf, T., Vogler, U., Zeitner, U.D., Völkel, R.
The Talbot effect is utilized for micro-fabrication of periodic microstructures via proximity lithography in a mask aligner. A novel illumination system, referred to as MO Exposure Optics, allows to control the effective source shape and accordingly
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______610::d0ca12b05c14fe1d53cacb3d77b3401c
https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/222186
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje