Zobrazeno 1 - 10
of 26
pro vyhledávání: '"Uesawa, Fumikatsu"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Fukasawa, Masanaga, Nakakubo, Yoshinori, Matsuda, Asahiko, Takao, Yoshinori, Eriguchi, Koji, Ono, Kouichi, Minami, Masaki, Uesawa, Fumikatsu, Tatsumi, Tetsuya
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science ＆ Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 29(4):041301-041301-7
Silicon substrate damage caused by HBr/O2 plasma exposure was investigated by spectroscopic ellipsometry (SE), high-resolution Rutherford backscattering spectroscopy, and transmission electron microscopy. The damage caused by H2, Ar, and O2 plasma ex
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=jairo_______::8bedc98dff5e708292ebd473c212d473
http://hdl.handle.net/10131/9077
http://hdl.handle.net/10131/9077
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Mimotogi, Shoji, Uesawa, Fumikatsu, Tominaga, Makoto, Fujise, Hiroharu, Sho, Koutaro, Katsumata, Mikio, Hane, Hiroki, Ikegami, Atsushi, Nagahara, Seiji, Ema, Tatsuhiko, Asano, Masafumi, Kanai, Hideki, Kimura, Taiki, Iwai, Masaaki
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; Nov2007, Issue 1, p652008-652008-9, 9p
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; Nov2006, Issue 1, p615504-615504-10, 10p
Mask specifications for 45-nm node: the impact of immersion lithography and polarized light imaging.
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; Nov2006, Issue 1, p628337-628337-11, 11p
Autor:
Iwase, Kazuya, Thunnakart, Boontarika, Kaneguchi, Tokihisa, Ozawa, Ken, Yokoyama, Toshifumi, Morikawa, Yasutaka, Uesawa, Fumikatsu
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; Nov2006, Issue 1, p634951-634951-9, 9p
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; Nov2005 Part 2, Issue 1, p59920Y-59920Y-10, 10p