Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"Uean-Sin Pahk"'
Publikováno v:
Journal of The Electrochemical Society. 138:308-313
A differential reflectance technique has been applied to study the etching of Silicon dioxide films on Silicon substrates in-situ in the liquid Hydrogen Fluoride/Water environment as well as ex-situ. Essentially, the technique scans an incident optic
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e603e25c75681cc0258100ca26b262d8
https://doi.org/10.1149/1.2085561
https://doi.org/10.1149/1.2085561
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.