Zobrazeno 1 - 10 of 21 pro vyhledávání: '"Turban, Guy"'
1
Akademický článek
In situ deposition and etching process of a-C:H:N films in a dual electron cyclotron resonance–radio frequency plasma
Autor: Hong, Junegie *, Granier, Agnès, Goullet, Antoine, Turban, Guy
Publikováno v: In Diamond & Related Materials April-May 2000 9(3-6):573-576
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Optical characterization of hydrogenated amorphous carbon (a-C:H) thin films deposited from methane plasma
Autor: Hong, Junegie, Goullet, Antoine *, Turban, Guy
Publikováno v: In Thin Solid Films 27 March 2000 364(1-2):144-149
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Etching process of hydrogenated amorphous carbon (a-C:H) thin films in a dual ECR–r.f. nitrogen plasma
Autor: Hong, Junegie *, Turban, Guy
Publikováno v: In Diamond & Related Materials 1999 8(2):572-576
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Surface and plasma simulation of deposition processes: CH4 plasmas for the growth of diamondlike carbon.
Autor: Mantzaris, Nikolaos V., Gogolides, Evangelos, Boudouvis, Andreas G., Rhallabi, Ahmed, Turban, Guy
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 4/1/1996, Vol. 79 Issue 7, p3718, 12p, 2 Charts, 7 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
7
Conference
Plasma Deposition of Diamond-Like Carbon and Carbon-Nitride Films in an Electron Cyclotron Resonance-Radio Frequency Discharge.
Autor: Turban, Guy, Zarrabian, Marjan, Hong, Junegie
Publikováno v: MRS Online Proceedings Library; 1998, Vol. 544 Issue 1, p89-100, 12p
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Measurements of rf bias effect in a dual electron cyclotron resonance-rf methane plasma using the Langmuir probe method.
Autor: Hong, Junegie, Granier, Agnès, Leteinturier, Christiane, Peignon, Marie-Claude, Turban, Guy
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 2000, Vol. 18 Issue 2, p497-502, 6p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Mass spectrometric study of SF-N plasma during etching of silicon and tungsten.
Autor: Mutsukura, Nobuki, Turban, Guy
Publikováno v: Plasma Chemistry & Plasma Processing; Mar1990, Vol. 10 Issue 1, p27-47, 21p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje