Morphologies and growth modes of FeSi and beta-FeSi2 layers prepared by rapid thermal annealing

Autor: Amesz, PH, Jorgensen, LV, Libezny, M, Poortmans, J, Nijs, J, vanVeen, A, Schut, H, deHosson, JTM, Tung, RT, Maex, K, Pellegrini, PW, Allen, LH

Publikováno v: SILICIDE THIN FILMS-FABRICATION, PROPERTIES, AND APPLICATIONS, 373-378
STARTPAGE=373;ENDPAGE=378;TITLE=SILICIDE THIN FILMS-FABRICATION, PROPERTIES, AND APPLICATIONS

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=narcis______::3922a2058a83e53f6d72c57a2ab9f08f
https://research.rug.nl/en/publications/1327eed3-c48a-49bd-9a7d-793bd9168848

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.