Zobrazeno 1 - 10 of 23 pro vyhledávání: '"Trojahn, M."'
2
Conference
100 nm half-pitch double exposure KrF lithography using binary masks.
Autor: Geisler, S., Bauer, J., Haak, U., Stolarek, D., Schulz, K., Wolf, H., Meier, W., Trojahn, M., Matthus, E.
Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2008 Part 2, Issue 1, p69241Z-69241Z-8, 8p
Zobrazit plný text záznamu
3
Conference
Double exposure technology for KrF lithography.
Autor: Geisler, S., Bauer, J., Haak, U., Stolarek, D., Schulz, K., Wolf, H., Meier, W., Trojahn, M., Matthus, E., Beyer, H., Old, G., Marschmeyer, St., Kuck, B.
Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2008, Issue 1, p679203-679203-9, 9p
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
5
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
6
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
7
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
8
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
9
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
10
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje