Dust particle charge and screening in the collisional RF plasma sheath

Autor: Beckers, J., Trienekens, D.J.M., Kroesen, G.M.W., Sprouse, G.D.

Publikováno v: Presentation at the 65th Gaseous Electronics Conference October 22-26 2012, Austin Texas, USA, 19-19
STARTPAGE=19;ENDPAGE=19;TITLE=Presentation at the 65th Gaseous Electronics Conference October 22-26 2012, Austin Texas, USA

Once immersed in plasma, a dust particle gathers a highly negative charge due to the net collection of free electrons. In most plasma's on earth and with particle sizes is in the micrometer range, the gravitational force is dominant and consequently

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=narcis______::a3fe8409eed35adacf05c88e80288459
https://research.tue.nl/nl/publications/10130e3f-49cb-4eb7-a970-7d293406bad8

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

EUV-Induced Plasma: A Peculiar Phenomenon of a Modern Lithographic Technology.

Autor: Beckers, Job, van de Ven, Tijn, van der Horst, Ruud, Astakhov, Dmitry, Banine, Vadim

Publikováno v: Applied Sciences (2076-3417); 7/15/2019, Vol. 9 Issue 14, p2827, 23p