Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"Trace Q. Hurd"'
Autor:
Juergen Boemmels, Qi Wang, Subhadeep Kal, Frank Holsteyns, Trace Q. Hurd, Matthew Falugh, Aelan Mosden, Cheryl Pereira, Yusuke Oniki, Kaushik A. Kumar, Julien Ryckaert, Jeffrey Smith, Peter Biolsi
Publikováno v:
Advanced Etch Technology for Nanopatterning VIII.
Area scaling without compromising on performance has become a challenge for technology nodes beyond N7. Gate all-around (GAA) device architecture for N5 and beyond technology nodes is emerging as a promising solution and is being heavily investigated
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::cf5e67119024899d73b6dcf75e0df655
https://doi.org/10.1117/12.2514741
https://doi.org/10.1117/12.2514741
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.