Zobrazeno 1 - 10
of 282
pro vyhledávání: '"Tin thin films"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Applied Sciences, Vol 12, Iss 7, p 3571 (2022)
In this study, TiN thin films fabricated based on the substrate temperature process parameters of a DC magnetron sputtering device and their characteristics are analyzed. TiN thin films are deposited on Si wafer (100) substrates by setting the substr
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/4a07d1ea4a2f4a3ba01c7350b747b4e0
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Periódico Tchê Química. 17:164-173
In this report, TiN nanocrystalline thin films were deposited on glass and Ti-6Al-4V substrates using a DC-magnetron sputtering technique. The TiN films were sputtered using a pure Ti target (99.9%) with 40W of power in Ar/N2 gas mixture atmosphere.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::610ab62332a11c0ecb3e02620573bdb7
https://doi.org/10.52571/ptq.v17.n35.2020.15_hamil_pgs_164_173.pdf
https://doi.org/10.52571/ptq.v17.n35.2020.15_hamil_pgs_164_173.pdf
Publikováno v:
Rare Metals. 40:582-589
This work presents the electronic behavior of Ti and TiN thin films when exposed to electrolytes with pH levels of 2, 7 and 13 for 90 days. Staircase potentio-electrochemical impedance spectroscopy tests were performed on the 100-nm Ti and TiN monoli
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::7a8f0e8bafd25aa639150fdf03eaf5f6
https://doi.org/10.1007/s12598-020-01386-5
https://doi.org/10.1007/s12598-020-01386-5
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Manosi Roy, Rahul Ponnam, Panupong Jaipan, Sergey Yarmolenko, Nikhil Reddy Mucha, Dhananjay Kumar, Onome Scott-Emuakpor, A. K. Majumdar
Publikováno v:
Thin Solid Films. 681:1-5
Detailed electrical resistivity (ρ) measurements have been carried out in epitaxial TiN thin films in the temperature (T) range of 4 ≤ T ≤ 300 K in magnetic fields from 0 to 6 T. The ρ (T) data show distinct minima around 38 K, which remains un
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::c2d20b4b503bc8c61fcdd008f93f3484
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2019.05.005
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2019.05.005