Zobrazeno 1 - 10 of 23 pro vyhledávání: '"Thomson, M. G. R."'
1
Akademický článek
Energy distributions of Zr/O/W Schottky electron emission.
Autor: Kim, H.S., Yu, M.L., Thomson, M. G. R., Kratschmer, E., Chang, T. H. P.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 1/1/1997, Vol. 81 Issue 1, p461, 5p, 1 Diagram, 1 Chart, 5 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Electron and Molecular Microscopy: Possibilities Rather than Limitations
Autor: Jacobsen, E. H., King, J. G., Thomson, M. G. R., Weaver, J. C.
Publikováno v: Science, 1971 Aug . 173(3998), 751-752.
Externí odkaz: https://www.jstor.org/stable/1732430
Zobrazit plný text záznamu
3
Conference
ELECTRON BEAM MICROCOLUMNS FOR NANOLITHOGRAPHY.
Autor: Chang, T. H. P., Thomson, M. G. R., Kratschmer, E., Kim, H. S., yu, M. L., Lee, K. Y., Rishton, S. A., Hussey, B. W., Zolgharnain, S.
Publikováno v: Quantum Devices & Circuits, Proceedings of the International Conference; 1996, p3-15, 13p
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Evaluation of the proximity effect and GHOST correction technique for submicron electron beam lithography at 50 and 20 kV.
Autor: Kostelak, R. L., Kung, E. H., Thomson, M. G. R., Vaidya, S.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics Processing & Phenomena; 1988, Vol. 6 Issue 6, p2042-2047, 6p
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
GHOST proximity correction technique: Its parameters, limitations, and process latitude.
Autor: Kostelak, R. L., Kung, E. H., Thomson, M. G. R., Vaidya, S.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics Processing & Phenomena; 1988, Vol. 6 Issue 1, p448-455, 8p
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
The EBES4 electron-beam column.
Autor: Thomson, M. G. R., Liu, R., Collier, R. J., Carroll, H. T., Doherty, E. T., Murray, R. G.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics Processing & Phenomena; 1987, Vol. 5 Issue 1, p53-56, 4p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
EBES4: A new electron-beam exposure system.
Autor: Alles, D. S., Biddick, C. J., Bruning, J. H., Clemens, J. T., Collier, R. J., Gere, E. A., Harriott, L. R., Leone, F., Liu, R., Mulrooney, T. J., Nielsen, R. J., Paras, N., Richman, R. M., Rose, C. M., Rosenfeld, D. P., Smith, D. E. A., Thomson, M. G. R.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics Processing & Phenomena; 1987, Vol. 5 Issue 1, p47-52, 6p
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
Performance of Zr/O/W Schottky emitters at reduced temperatures.
Autor: Kim, H. S., Yu, M. L., Thomson, M. G. R., Kratschmer, E., Chang, T. H. P.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1997, Vol. 15 Issue 6, p2284-2288, 5p
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Electron-beam microcolumns for lithography and related applications.
Autor: Chang, T. H. P., Thomson, M. G. R., Kratschmer, E., Kim, H. S., Yu, M. L., Lee, K. Y., Rishton, S. A., Hussey, B. W., Zolgharnain, S.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1996, Vol. 14 Issue 6, p3774-3781, 8p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Experimental evaluation of a 20×20 mm footprint microcolumn.
Autor: Kratschmer, E., Kim, H. S., Thomson, M. G. R., Lee, K. Y., Rishton, S. A., Yu, M. L., Zolgharnain, S., Hussey, B. W., Chang, T. H. P.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1996, Vol. 14 Issue 6, p3792-3796, 5p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje