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Low-temperature dry etching of copper using a new chemical approach

Autor: M. Schober, Th. Kruck

Publikováno v: Microelectronic Engineering. :121-126

The increasing demand for faster microelectronic circuits with improved performance will force fundamental changes in future semiconductor manufacturing. The realization of deep submicron feature sizes in ultra-large-scale integration (ULSI) devices

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https://doi.org/10.1016/s0167-9317(97)00102-0

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Precursor development for the chemical vapor deposition of aluminium, copper and palladium

Autor: F. Klein, M. Schober, M. Scherer, A. Gräfe, R. Heinen, Th. Kruck

Publikováno v: Applied Surface Science. 91:187-191

The concept of “molecular engineering” has been employed to systematically influence the physical and chemical properties of metalorganic compounds with the aim of using them as precursors in CVD processes. As a result of our studies the compound

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https://doi.org/10.1016/0169-4332(95)00117-4

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Deposition of gold on polyimide from solutions

Autor: F. Jansen, S. Pflüger, F. Lupp, M. Wehner, Th. Kruck

Publikováno v: Applied Surface Science. 86:504-508

Laser-assisted deposition of gold is investigated as a technique for structured metallization of PI. Gold lines are written from MeAuPMe 3 dissolved in toluene or DME by means of an argon laser. The writing speed of the laser process typically is 1 m

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https://doi.org/10.1016/0169-4332(94)00460-9

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Laser Induced Gold Deposition on Polyimide Layers

Autor: D. Metzger, H. Reichl, Th. Kruck, A. Paredes

Publikováno v: Micro System Technologies 90 ISBN: 9783642456800

An apparatus was set up for laser induced chemical vapor deposition of gold on polyimide. Electrical interconnects were written by thermal decomposition of an organometallic gold compound in an argon ion laser focus. The low decomposition temperature

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https://doi.org/10.1007/978-3-642-45678-7_46

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MOLECULAR ENGINEERING IN SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY : BOROSILICATEGLASS BY DECOMPOSITION OF A MONOMOLECULAR PRECURSOR

Autor: O. Spindler, Th. Kruck, Helmuth Treichel

Publikováno v: Le Journal de Physique Colloques. 50:C5-747

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https://doi.org/10.1051/jphyscol:1989590

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Metallkomplexe mit anionischen Liganden von Elementen der 4. Hauptgruppe. VIII. Pentacarbonyl-trihalogenstannido-metallat(O)-Komplexe von chrom, molybd�n und wolfram mit fluor- und jodhaltigen stannidliganden

Autor: W. Molls, M. Schless, Th. Kruck, K. Ehlert

Publikováno v: Zeitschrift f�r anorganische und allgemeine Chemie. 414:277-283

In Methylenchlorid setzt sich [As(C6H5)4][SnF3] glatt mit den Metallhexacarbonylen zu den Arsoniumsalzen der Pentacarbonyl-trifluorstannido-metallat(O)-Komplexe [M(CO)5SnF3]− (M Cr, Mo, W) um. Mit [N(C2H5)4][SnJ3] konnte in THF-Losung nur uber das

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https://doi.org/10.1002/zaac.19754140312

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Metallkomplexe mit anionischen Liganden von Elementen der 4. Hauptgruppe. XI. Substitutionsreaktionen der Trichlorgermid- und Trichlorstannid-Ionen an Metalltrifluorphosphin-Komplexen

Autor: Th. Kruck, W. Molls, K. Ehlert

Publikováno v: Zeitschrift f�r anorganische und allgemeine Chemie. 422:59-64

Unter UV-Bedingungen in THF liefern [SnCl3]−-Ionen mit den Metall(0)-trifluorphosphinen von Nickel, Eisen und Molybdan die Metallat(0)-Komplexe [Ni(PF3)3SnCl3]−, [Fe(PF3)3(SnCl3)2]2− und [Mo(PF3)5SnCl3]−. Hingegen bildet das bei Substitutions

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https://doi.org/10.1002/zaac.19764220108

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Fluoraustauschreaktionen an Metalltrifluorphosphin-Komplexen. IX. Zum Reaktionsverhalten von Tetrakis(trifluorphosphin)nickel(0) gegen�ber Alkyl(trimethylsilyl)aminen und -amiden

Autor: G. Schmidgen, G. Mälueler, Th. Kruck

Publikováno v: Zeitschrift f�r anorganische und allgemeine Chemie. 412:239-245

Ni(PF3)4 (1) reagiert mit Alkyl(trimethylsilyl)aminen NHR(SiMe3) (RCH3 und n-C4H9) unter Me3SiF-Abspaltung zu den Alkylaminodifluorphosphinkomplexen Ni(PF3)4-n(PF2NHR)n (n = 1, 2 und 3) 8–11. Der Reaktionsablauf wird anhand eines Vierzentren-Synchr

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https://doi.org/10.1002/zaac.19754120307

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Fluoraustauschreaktionen an Metalltrifluorphosphan-Komplexen. X [1]. Zum Reaktionsverhalten von Tetrakis(trifluorphosphan)-nickel(0) mit Metallorganylen [2]

Autor: Th. Kruck, G. Mäeler

Publikováno v: Zeitschrift f�r anorganische und allgemeine Chemie. 475:156-164

Ni(PF3)4 (1) tauscht mit Lithiumorganylen und Grignard-Reagentien Fluor gegen Organyl-Gruppen aus, wobei die Komplexe (10–32) Ni(PF3)4−n(PF2R)n (n = 1, 2 und 3), Ni(PF3)3(PFR2), Ni(PF3)2(PF2R)(PFR2) und Ni(PF3)3(PR3) (R = organ. Rest) gebildet we

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::fccbfbf3b306add351fef3ad01bf8632
https://doi.org/10.1002/zaac.19814750418

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