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Beiträge zum Verständnis des sauren nasschemischen Ätzens von Silicium: Das System HF-HNO3-H2SO4/H2O
Autor:
Lippold, Marcus
Der Siliciumauflöseprozess in HF-HNO3-H2SO4/H2O-Lösungen unterscheidet sich vom Ätzprozess in HF-HNO3-H2O-Standardmischungen in Bezug auf die Reaktivität gegenüber Silicium, erzielte Oberflächenmorpholgien sowie die beim Ätzen entstehenden gel
Externí odkaz:
https://tubaf.qucosa.de/id/qucosa%3A22923
https://tubaf.qucosa.de/api/qucosa%3A22923/attachment/ATT-0/
https://tubaf.qucosa.de/api/qucosa%3A22923/attachment/ATT-0/
Autor:
Lippold, Marcus
Der Siliciumauflöseprozess in HF-HNO3-H2SO4/H2O-Lösungen unterscheidet sich vom Ätzprozess in HF-HNO3-H2O-Standardmischungen in Bezug auf die Reaktivität gegenüber Silicium, erzielte Oberflächenmorpholgien sowie die beim Ätzen entstehenden gel
Externí odkaz:
http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:105-qucosa-145077
http://www.qucosa.de/fileadmin/data/qucosa/documents/14507/Dissertation.pdf
http://www.qucosa.de/fileadmin/data/qucosa/documents/14507/Dissertation.pdf
Plasma processes are applied for a variety of surface modifications. Examples of this are coatings to achieve improved corrosion and scratch protection, or surface cleaning and texturing. However, since these processes usually take place in a vacuum,
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::dd98131b75ada77c154fe51dac89b39e
https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/213034
https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/213034