Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"Tesh, O"'
Autor:
Moloney, J, Tesh, O, Singh, M, Roberts, JW, Jarman, JC, Lee, LC, Huq, TN, Brister, J, Karboyan, S, Kuball, M, Chalker, PR, Oliver, RA, Massabuau, FCP
Low temperature atomic layer deposition was used to deposit α-Ga2O3 films, which were subsequently annealed at various temperatures and atmospheres. The α-Ga2O3 phase is stable up to 400 oC, which is also the temperature that yields the most intens
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::f4d8da752d36184db8b0b83ceec3cba5
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.