Výsledky vyhledávání - "Tanihara, Akira"

Akademický článek

Characterization of electric-field enhancement leading to circuit-layout dependent damage of low-k films when exposed to processing plasma.

Autor: Ikeda, Taro, Tanihara, Akira, Yamamoto, Nobuhiko, Eriguchi, Koji

Publikováno v: Journal of Applied Physics; 8/28/2019, Vol. 126 Issue 8, pN.PAG-N.PAG, 8p, 4 Diagrams, 1 Chart, 6 Graphs

Zobrazit plný text záznamu

Conference

Plasma-induced photon irradiation damage on low-k dielectrics enhanced by Cu-line layout.

Autor: Ikeda, Taro, Tanihara, Akira, Yamamoto, Nobuhiko, Kasai, Shigeru, Eriguchi, Koji, Ono, Kouichi

Publikováno v: 2015 International Conference on IC Design & Technology (ICICDT); 2015, p1-4, 4p

Zobrazit plný text záznamu

Periodical

Preparation of TiN Films by Electron Cyclotron Resonance Plasma Chemical Vapor Deposition

Autor: Akahori, Takashi, Tanihara, Akira, Tano, Masashi

Publikováno v: Japanese Journal of Applied Physics; December 1991, Vol. 30 Issue: 12 p3558-3558, 1p

Zobrazit plný text záznamu

Conference

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.