Zobrazeno 1 - 10
of 12
pro vyhledávání: '"Tango Naohiro"'
Autor:
Guerrero, Douglas, Amblard, Gilles R., Ou, Keiyu, Tango, Naohiro, Fujimaki, Nishiki, Marumo, Kazuhiro, Hiura, Nobuhiro, Takahashi, Satomi, Fujimori, Toru
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; April 2024, Vol. 12957 Issue: 1 p129570W-129570W-6, 1166137p
Autor:
Naulleau, Patrick P., Gargini, Paolo A., Itani, Toshiro, Ronse, Kurt G., Ou, Keiyu, Tango, Naohiro, Fujimori, Toru
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; November 2023, Vol. 12750 Issue: 1 p127500A-127500A-8, 1147509p
Autor:
Guerrero, Douglas, Amblard, Gilles R., Ou, Keiyu, Tango, Naohiro, Fujimaki, Nishiki, Marumo, Kazuhiro, Hiura, Nobuhiro, Takahashi, Satomi, Fujimori, Toru
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; May 2023, Vol. 12498 Issue: 1 p124980D-124980D-7, 1124828p
Autor:
Akinori Shibuya, Hidenori Takahashi, Marumo Kazuhiro, Mitsuhiro Fujita, Keiyu O, Takada Akira, Tango Naohiro, Kei Yamamoto, Toru Fujimori
Publikováno v:
Journal of Photopolymer Science and Technology. 31:555-558
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::3f858aebfe8276db225fe2d6db857ede
https://doi.org/10.2494/photopolymer.31.555
https://doi.org/10.2494/photopolymer.31.555
Autor:
Goto Akiyoshi, Tango Naohiro, Ryo Nishio, Hidenori Takahashi, Shirakawa Michihiro, Toru Fujimori, Marumo Kazuhiro, Mitsuhiro Fujita, Kei Yamamoto
Publikováno v:
Journal of Photopolymer Science and Technology. 30:367-372
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::616e72894b0454019f04a4dc80569049
https://doi.org/10.2494/photopolymer.30.367
https://doi.org/10.2494/photopolymer.30.367
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; 12/19/2023, Vol. 12750, p127500A-127500A-8, 1p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Wataru Nihashi, Hideaki Tsubaki, Marumo Kazuhiro, Tango Naohiro, Goto Akiyoshi, Kei Yamamoto, Hidenori Takahashi, Furutani Hajime, Mitsuhiro Fujita, Shirakawa Michihiro
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
The main challenge in ArF lithography is to reduce cost of ownership (CoO) because increase in multi-patterning process is generally required to obtain a fine pattern. As a consequence, industry strongly requires ArF lithography process with a fast s
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::bfdd17e9ce056137da66249fabf8c499
https://doi.org/10.1117/12.2257956
https://doi.org/10.1117/12.2257956
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.