Zobrazeno 1 - 9
of 9
pro vyhledávání: '"T.V. Phuc"'
Autor:
P.L. Tuan, M. Kulik, T.V. Phuc, A.I. Madadzada, T.Yu. Zelenyak, M. Turek, J. Żuk, C. Mita, A. Stanculescu, A.S. Doroshkevich, B. Jasinska, L.H. Khiem, N.N. Anh, N.T. Bao My
Publikováno v:
Thin Solid Films. 756:139376
Autor:
I.A. Chepurchenko, A.S. Doroshkevich, M. Kulik, T. YuZelenyak, A.I. Madadzada, A.N. Lihachev, M.A. Balasoui, E.V. Lychagin, P. Badica, M. Stef, B. Jasinska, T.V. Phuc, L.H. Khiem, P.L. Tuan
Publikováno v:
Book of Abstracts.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
M. Kulik, P.L. Tuan, P. Horodek, Nguyen Ngoc Anh, J. Nowicka-Scheibe, Marcin Turek, Jerzy Żuk, T.V. Phuc, Le Hong Khiem
Publikováno v:
Surface and Coatings Technology. 394:125871
Semi-insulating (100) oriented GaAs was irradiated with 250 keV Xe+ ions with different fluences. The native oxide layers formed in the air after implantation are investigated in this study. The surface density of atoms in the native oxide layer, det
Publikováno v:
Surface and Coatings Technology. 387:125494
The influence of noble gases ion implantation on the depth distribution of elements in the TiO2/SiO2 bilayers on the Si substrates has been investigated using the Rutherford Backscattering Spectrometry (RBS). The structures were implanted by Ne+, Ar+
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.