Zobrazeno 1 - 10
of 38
pro vyhledávání: '"T.S. Kamilov"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Technical Physics. 55:874-876
The growth of manganese silicide films on silicon under the conditions of equilibrium and non-equilibrium diffusion doping of the silicon from the vapor phase is studied for different weight percent of the dopant.
Autor:
D.K. Kabilov, M.E. Azimov, S.Kh. Babadjanov, R.Kh. Kamilova, A.S. Orekhov, V. V. Klechkovskaya, T.S. Kamilov, E.I. Suvorova
Publikováno v:
2006 25th International Conference on Thermoelectrics.
The higher manganese silicide (HMS) films were grown in a high-vacuum reactor temperature as a result of interaction of Mn vapour with Si-substrate subsurface layer at the substrate temperature ~ 1040degC. The films have been investigated by electron
Autor:
A.S. Orekhov, V. V. Klechkovskaya, M.E. Azimov, E.I. Suvorova, T.S. Kamilov, D.K. Kabilov, R.Kh. Kamilova
Publikováno v:
2006 25th International Conference on Thermoelectrics.
The silicides are ecologically friendly materials and they have a mechanical stability to corrosion, oxidation, decay and aggressive environments. It is known that a bulk magnesium silicide - Mg2Si demonstrates semiconductor conductivity n-type chara
Autor:
I.S. Samiev, D.K. Kabilov, M. Takeda, T.S. Kamilov, R.H. Kamilova, S. Dadamuhamedov, A.S. Orekhov, H.H. Husnutdinova, V. V. Klechkovskaya
Publikováno v:
ICT 2005. 24th International Conference on Thermoelectrics, 2005..
In the last years the great interest of scientists is focused on the study of higher manganese silicide films due to their high thermoelectric properties, good stability at high temperatures and combination with standard silicon planar technology. In
Autor:
S. Dadamuhamedov, H.H. Husnutdinova, I.S. Samiev, V. V. Klechkovskaya, T.S. Kamilov, D.K. Kabilov
Publikováno v:
ICT 2005. 24th International Conference on Thermoelectrics, 2005..
Higher manganese silicide - MnSi/sub /spl sim/1.7/ was found as semiconducting and can be a promising thermoelectric material for high temperature applications. In this work, we report the growth of continuous higher manganese silicide film formed on
Publikováno v:
ICT 2005. 24th International Conference on Thermoelectrics, 2005..
In this work it was informed about development of the thermoelectric radiation detector based on the multielement structures made of the polycrystalline higher manganese silicide films. The films were grown on a p-type silicon substrate with n-type s
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.