Zobrazeno 1 - 10
of 17
pro vyhledávání: '"T.M. Korhonen"'
Autor:
Paul A. Lauro, Sung K. Kang, L.P. Lehman, Karl J. Puttlitz, T.M. Korhonen, David E. King, Charles C. Goldsmith, James John Woods, Da-Yuan Shih, Matt A. Korhonen, Jay Bartelo, Donald W. Henderson, Eric J. Cotts, Timothy A. Gosselin
Publikováno v:
Journal of Materials Research. 19:1608-1612
During the solidification of solder joints composed of near-eutectic Sn–Ag–Cu alloys, the Sn phase grows rapidly with a dendritic growth morphology, characterized by copious branching. Notwithstanding the complicated Sn growth topology, the Sn ph
Publikováno v:
Microelectronics Reliability. 40:2053-2060
Reliability assessment of chip level interconnects is based on accelerated testing at a higher temperature and a larger current density than expected in service conditions. The critical parameters needed to extrapolate accelerated test data to servic
Publikováno v:
1999 IEEE International Reliability Physics Symposium Proceedings. 37th Annual (Cat. No.99CH36296).
Reliability assessment of chip level interconnects is based on accelerated testing at a higher temperature and a larger current density than expected in service conditions. The critical parameters needed to extrapolate accelerated test data to servic
Publikováno v:
1998 5th International Conference on Solid-State and Integrated Circuit Technology. Proceedings (Cat. No.98EX105).
Although current density exponents and activation energies are well-known for the elemental processes (like void nucleation due to electromigration generated stress) there is no consensus on which apparent activation energy or current density exponen
Publikováno v:
2000 Proceedings. 50th Electronic Components and Technology Conference (Cat. No.00CH37070).
Direct Chip Attach (DCA) of Si chips to an organic substrate requires modification to the conventional Cu based Under Bump Metallization (UBM). Ni-containing UBM's have proven to be able to effectively reduce the intermetallic compound growth rate, w
Publikováno v:
Scopus-Elsevier
Several under bump metallization (UBM) schemes using CuNi alloys as the solderable layer were investigated. The nickel slows down the dissolution of the UBM into the solder and the formation of intermetallics during reflow. Ni containing UBMs were fa
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::568f720a3f8c29bc03a1f638c30ef61e
http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0034478827&partnerID=MN8TOARS
http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0034478827&partnerID=MN8TOARS
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.