Zobrazeno 1 - 10
of 52
pro vyhledávání: '"T. Yara"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Mitsutaka Matsumoto, Setsuo Nakajima, T. Yara, Yohei Inayoshi, Yasutake Toyoshima, Maki Suemitsu, Tsuyoshi Uehara
Publikováno v:
Thin Solid Films. 516:6673-6676
High quality polycrystalline Si films deposited on polyethylene terephthalate (PET) substrates without incubation layers have been achieved with high growth rate (40 nm/min) using plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) operated at near atm
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::2640b4587514468fbc9b62f460d8bcc5
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2007.11.041
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2007.11.041
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Setsuo Nakajima, E. Miyamoto, Yasutake Toyoshima, Mitsutaka Matsumoto, Yohei Inayoshi, Tsuyoshi Uehara, Maki Suemitsu, T. Yara
Publikováno v:
Applied Surface Science. 254:6208-6210
Silicon nitride (SiN X ) film fabrication on polyethylene terephthalate (PET) substrates has been achieved at a low temperature (∼100 °C) by plasma enhanced chemical vapor deposition operated at near atmospheric pressures. A short-pulse based powe
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::5a0cb2faf10804565ffb8f4bf2a856bd
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2008.02.186
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2008.02.186
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.