Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"T. Karaback"'
Autor:
Christopher Jezewski, Toh-Ming Lu, G. A. Ten Eyck, Fu Tang, T. Karaback, Jay J. Senkevich, Deli Liu, Gwo-Ching Wang, William A. Lanford, S. Pimanpang
Publikováno v:
Chemical Vapor Deposition. 11:60-66
A method is presented for the atomic layer deposition (ALD) of palladium using remote hydrogen plasma as the reducing source and agent. Palladium was deposited on iridium, tungsten and silicon at 80 °C using a remote inductively coupled hydrogen pla
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::eb1dd312dec5189e75b457fe3a805131
https://doi.org/10.1002/cvde.200306312
https://doi.org/10.1002/cvde.200306312
Autor:
J. J. Senkevich, F. Tang, D. Liu, S. Pimanpang, T. Karaback, G.-C. Wang, T.-M. Lu, C. Jezewski, W. A. Lanford
Publikováno v:
Chemical Vapor Deposition; Jan2005, Vol. 11 Issue 1, p60-66, 7p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.