Zobrazeno 1 - 10
of 21
pro vyhledávání: '"T. Ingwersen"'
Autor:
S. Wolf, S. E. Holm, T. Ingwersen, C. Bartling, G. Bender, G. Birke, A. Meyer, A. Nolte, K. Ottes, O. Pade, M. Peller, J. Steinmetz, C. Gerloff, G. Thomalla
Publikováno v:
Annals of Medicine, Vol 54, Iss 1, Pp 1265-1276 (2022)
Background Lower socioeconomic status (SES) is associated with higher mortality rates and the likelihood of receiving less evidence-based treatment after stroke. In contrast, little is known about the impact of SES on recovery after discharge from in
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/65310268c1044bff965ced70284445b0
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Mai Aggerbeck, Stephen Akintunde, Huw Alexander, Otmane Azeroual, David Baker, Emma Bond, Ellen Buck, Agustí Canals, Karen Carden, Diana L.H. Chan, Josep Cobarsí, Lynn Silipigni Connaway, Mark Dahl, Lucy Ellis, Martin Hamilton, Anja T. Ingwersen, Carl Gustav Johannsen, Juan D. Machin-Mastromatteo, Maja Maricevic, Alistair McNaught, Katarina Michnik, Valentini Moniarou-Papaconstantinou, Matthew Naughtin, Signe Nielsen, Catherine O’Connor, Eva Ortoll, Andy Phippen, Flora Roumpani, Joachim Schöpfel, Daniella LaShaun Smith, Evgenia Vasilakaki, Alan Wilson, Gabrielle K.W. Wong, Sayeda Zain
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::8244e28c8bd2cb99768577c76646b84c
https://doi.org/10.1016/b978-0-12-822144-0.09984-5
https://doi.org/10.1016/b978-0-12-822144-0.09984-5
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
1988. Proceedings., Fifth International IEEE VLSI Multilevel Interconnection Conference.
TEOS and SiH/sub 4/ PECVD films were deposited over patterned polysilicon in a parallel plate batch reactor. Both films were then etched using an etchback planarization process. Deposition and etch uniformity and quality were compared using optical t
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::5a58c1eee8463e60e3ddb11f38f33bad
https://doi.org/10.1109/vmic.1988.14214
https://doi.org/10.1109/vmic.1988.14214
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.