Zobrazeno 1 - 6
of 6
pro vyhledávání: '"T. Guha Neogi"'
Autor:
Benoit Francois Claude Ramadout, Deepal Wehella-Gamage, T. Staiger, T. Guha Neogi, Hans-Peter Moll
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
In order to allow competitive and low-cost designs in the 22nm FD-SOI technology 22FDX™, novel Middle-of-Line (MOL) constructs have been specifically enabled. The Gate Tie-Down (or “continuous RX”) construct allows an optimal device performance
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
Monte Carlo simulations are used in the semiconductor industry to evaluate variability limits in design rule generation, commonly for interaction between different layers. The variability of the geometry analyzed is determined mainly by the lithograp
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.