Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"T. Bejdak"'
Autor:
W. Piller, J. T. Nogatch, T. Bejdak, Christoph Hohle, Jan Klikovits, Elmar Platzgummer, Christof Klein, A. Zepka, W. Klingler, F. Thrum, M. Witt, Johannes Kretz, V. Kolarik, Florian Letzkus, Hans Loeschner, W. Pilz, Mathias Irmscher, Jörg Butschke, Philipp Jaschinsky, P. Dolezel
Publikováno v:
Alternative Lithographic Technologies.
Projection Mask-Less Lithography (PML2) is a potentially cost-effective multi electron-beam solution for the 22 nm half-pitch node and beyond. PML2 is targeted on using hundreds of thousands of individually addressable electron-beams working in paral
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::7c772f0a1df1e0f142a32598e2058742
https://doi.org/10.1117/12.813670
https://doi.org/10.1117/12.813670
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.