Zobrazeno 1 - 4
of 4
pro vyhledávání: '"SungjunKim"'
Autor:
Ejaz Ahmad Khera, Chandreswar Mahata, Muhammad Imran, Niaz Ahmad Niaz, Fayyaz Hussain, R. M. Arif Khalil, Umbreen Rasheed, null SungjunKim
Publikováno v:
RSC Advances. 12:11649-11656
Atomic Layer Deposition (ALD) was used for a tri-layer structure (HfO2/Al2O3/HfO2) at low temperature over an Indium Tin Oxide (ITO) transparent electrode.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::d8e1dabb045d0fdd93f4ffd237f1152c
https://doi.org/10.1039/d1ra08103a
https://doi.org/10.1039/d1ra08103a
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Ejaz Ahmad, Khera, Chandreswar, Mahata, Muhammad, Imran, Niaz Ahmad, Niaz, Fayyaz, Hussain, R M Arif, Khalil, Umbreen, Rasheed, SungjunKim
Publikováno v:
RSC advances. 12(19)
Atomic Layer Deposition (ALD) was used for a tri-layer structure (HfO
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=pmid________::afe4f89d27616853262528dbd8920bd6
https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/35432948
https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/35432948
Autor:
Khera, Ejaz Ahmad, Mahata, Chandreswar, Imran, Muhammad, Niaz, Niaz Ahmad, Hussain, Fayyaz, Khalil, R. M. Arif, Rasheed, Umbreen, SungjunKim
Publikováno v:
RSC Advances; 2022, Vol. 12 Issue 19, p11649-11656, 8p