Zobrazeno 1 - 7
of 7
pro vyhledávání: '"Stortelder, J.K."'
Publikováno v:
Proceedings Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography XI, SPIE Advanced Lithography Event, San Jose, CA, USA, 23 March 2020, 11323
The EUV BeamLine 2 (EBL2) is being used to expose samples to EUV radiation for optics and mask lifetime testing. Before and after exposure the samples can be analyzed in-situ by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). During exposure the samples can
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::16f19dc0a4d2ce9b96af26822f4a0166
http://resolver.tudelft.nl/uuid:c5c802ec-b126-4a94-b51f-c573ee22d506
http://resolver.tudelft.nl/uuid:c5c802ec-b126-4a94-b51f-c573ee22d506
Autor:
Bekman, H.H.P.T., Dekker, M.F., Ebeling, R.P., Janssen, J.P.B., Koster, N.B., Meijlink, J.R., Molkenboer, F.T., Nicolai, K., Putten, M. van, Rijnsent, C.G.J., Storm, A.J., Stortelder, J.K., Wu, C.C., Zanger, R.M.S. de
Publikováno v:
Proceedings International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2019, SPIE Photomask Technology + EUV Lithography, 2019, Monterey, CA, USA, 11147
Adoption of EUV lithography for high-volume production is accelerating. TNO has been involved in lifetime studies from the beginning of the EUV alpha demo tools. One of the facilities for these studies is the EUV Beam Line (EBL1) designed and install
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::e25c67dc58f9b58d613916dbdb080664
http://resolver.tudelft.nl/uuid:9473b2f5-ffd9-4a31-b37a-a472e816ec53
http://resolver.tudelft.nl/uuid:9473b2f5-ffd9-4a31-b37a-a472e816ec53
Publikováno v:
Goldberg, K.A., Proceedings Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography X 2019, 25-28 February 2019, San Jose, CA, USA
Novel absorber materials are being developed to improve EUV-reticle imaging performance for the next generations of EUV lithography tools. TNO, together with ASML, has developed a compatibility assessment for novel absorber materials, which addresses
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::77b4981660ee958f5923a850756fff6d
http://resolver.tudelft.nl/uuid:f5d5095a-073a-41df-9c30-d283b5faa45d
http://resolver.tudelft.nl/uuid:f5d5095a-073a-41df-9c30-d283b5faa45d
Autor:
Vroegindeweij, F., Stortelder, J.K., Bouwmeester, Henricus J.M., Boukamp, Bernard A., Rijnders, Augustinus J.H.M., Blank, David H.A.
Publikováno v:
MESA+ Day 2005
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=narcis______::0912763cc2774fe7e7b7a7a5b69bb46a
https://research.utwente.nl/en/publications/oxide-thinfilm-miniature-gas-sensors(d5453b61-1060-4014-aa12-762b6b5000b5).html
https://research.utwente.nl/en/publications/oxide-thinfilm-miniature-gas-sensors(d5453b61-1060-4014-aa12-762b6b5000b5).html
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.