Zobrazeno 1 - 9
of 9
pro vyhledávání: '"Stephenie, W."'
Publikováno v:
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing. 18:42-48
The polycrystalline silicon deposited by single-wafer rapid thermal chemical vapor deposition with both silane (SiH/sub 4/) and disilane (Si/sub 2/H/sub 6/) precursors have been characterized for across wafer uniformity, thickness repeatability, and
Publikováno v:
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing. 7:134-148
In this paper, we present an architecture for a run-to-run supervisory process control system that allows the engineer to tailor the form of control for specific processes. The architecture supports different degrees of control, from model-based cont
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Biotechnology and Bioprocess Engineering; October 2007, Vol. 12 Issue: 5 p475-483, 9p
Publikováno v:
Biotechnology and Bioprocess Engineering; March 2007, Vol. 12 Issue: 2 p106-113, 8p
Publikováno v:
Administration in Social Work. 12:73-87
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.