Zobrazeno 1 - 6
of 6
pro vyhledávání: '"Stephen D. Kirkish"'
Publikováno v:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography X.
This paper presents a analysis of depth of focus (DOF) based on optics or detector pixel size inoptical microscopes with electronic cameras. We first generally analyze DOF based on optics indifferent cases related to the spatial coherence of illumina
Autor:
Stephen D. Kirkish, Larry S. Zurbrick
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
New inspection capabilities have been developed in order to meet the emerging needs of reticle inspection. Many proposed optical proximity correction (OPC) methods currently utilize small (< 0.5 micrometers ) edge jogs on the reticle to affect edge f
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
The evaluation of three different phase-shifting inspection test masks will be described. Each reticle wasused to evaluate the defect detection capabilities on an automated inspection station for a different phaseshifting technique. Two test reticles
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
Coherence probe metrology (CPM) is a unique optical imaging technology which allows non- contact three dimensional measurements of sub-micron features. This technology has been applied to CD and overlay metrology on semiconductor wafers. CPM technolo
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.