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Filmes finos de TiO2 e N:TiO2, e multicamadas TiO2/N:TiO2 foram crescidos sobre substratos de aço AISI 316 e Si(100), por meio da técnica de deposição química de organometálicos em fase vapor (MOCVD). Foram produzidos filmes com diferentes espe
Autor:
Souza Filho, Edvan Almeida de, Pieretti, Eurico Felix, Bento, Rodrigo Teixeira, Pillis, Marina Fuser ⁎
Publikováno v:
In Journal of Materials Research and Technology January-February 2020 9(1):922-934