Zobrazeno 1 - 10
of 33
pro vyhledávání: '"Snegirev, E"'
Publikováno v:
2015 Plasma Sources Sci. Technol. 24 035003
An experimental setup that directly reproduces Extreme UV-lithography relevant conditions for detailed component exposure tests is described. The EUV setup includes a pulsed plasma radiation source, operating at 13.5 nm; a debris mitigation system; c
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1411.4505
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Optics & Spectroscopy. Jun2002, Vol. 92 Issue 6, p859. 7p.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; 11/ 1/1994, Issue 1, p462-465, 4p
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; Nov1992, Issue 1, p148-164, 17p
Publikováno v:
Optics & Spectroscopy; May2005, Vol. 98 Issue 5, p769-775, 7p
Publikováno v:
Spectrochimica Acta Part A: Molecular and Biomolecular Spectroscopy; 1996, Vol. 52 Issue: 8 p925-954, 30p
Publikováno v:
Journal of Applied Spectroscopy; October 1985, Vol. 43 Issue: 4 p1096-1100, 5p
Publikováno v:
Molecular Physics; October 1984, Vol. 53 Issue: 2 p287-294, 8p