Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"Sid P. Duttagupta"'
Autor:
Charles A. Sauer, Anne Rudack, Robert L. Dean, Etsuya Morita, Sid P. Duttagupta, Zoilo C. H. Tan, Bruce W. Smith, Dale E. Ewbank
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
The SIA roadmap has identified CD control as a critical issue in mask making. PBS, the most popular resist used for electron-beam mask making in the U.S., may not perform at the level required for production of 250 nm devices. There is a need in the
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.