Zobrazeno 1 - 4
of 4
pro vyhledávání: '"Shirushi Yamamoto"'
Publikováno v:
Polymer Engineering and Science. 23:1050-1053
A new negative working photo resist for UV lithography has been produced based on poly(methylisopropenylketone). Its significant characteristic is a minimal swelling upon development, with resulting high resolution capability.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::ce397a0cd229142ed6cf2556a9c87556
https://doi.org/10.1002/pen.760231815
https://doi.org/10.1002/pen.760231815
Autor:
Yoichi NAKAMURA, Shirushi YAMAMOTO, Takashi KOMINE, Shingo ASAUMI, Akira YOKOTA, Hisashi NAKANE
Publikováno v:
NIPPON KAGAKU KAISHI. :321-328
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::8399499e91b907f81e907414c4d4cbf1
https://doi.org/10.1246/nikkashi.1984.321
https://doi.org/10.1246/nikkashi.1984.321
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Polymer Engineering & Science; Dec1983, Vol. 23 Issue 18, p1050-1053, 4p